극단파장의 자외선(deep UV)을 이용한 광세정기술은 자외선(UV)과 자외선에 의하여 유도 방출된 오존을 이용함에 따라 UV/O₃세정이라고도 한다.
UV/O₃세정기술은 약품을 사용하지 않는 건식 세정이며 정밀 세정에 매우 효과적이며 피세정물의 표면 손상을 일으키지 않는 장점이 있어 반도체 wafer 세정이나 TFT 액정용 유리 기판의 표면세정과 표면 개질에 중요한 기술로 정착되고 있다.
   
   
UV/O₃세정은 상온에서 운전하며 취급관리가 용이하고 운전비가 저렴하며 저농도의 오염물에 매우 효과적이며 초청정도 표면을 얻을 수 있다. 그리고 기존 대기압 플라즈마나 엑시머 램프에 비해 확장성이 용이하고 투자비가 저렴하며 소형 기판에서부터 1800mm 이상의 대형 기판까지 적용이 가능하다.
적용의 구체적인 예로는,
1. 유리 표면의 친수화 및 개질
2. 금속 표면의 친수화 및 개질
3. 레지스터 표면의 개질
4. 레지스터 현상의 잔여 막 제거
5. 레지스터의 워싱
6. 산화막의 어닐링 및 개질
7. 산화막의 생성 등이 있다.
 
   
   
Model   WJUVO110NS
Power   110W x 10 Lamps
Use   Surface Cleaning for ITO
Lamp No. & Name   UV/O₃Cleaning Lamp
Cooling   Water & Forced Air Cooling
Power Supply   220/380V, 50/60Hz
Cleaning Area   1200 x 500mm
Reflector   Aluminum Mirror
Model   WJUVO90US
Lamp Power   90W x 10 Lamps
Use   Surface Cleaning for LCD
Lamp No. & Name   UV/O₃Cleaning Lamp
Cooling   Water or Forced Air Cooling
Power Supply   220/380V, 50/60Hz
OLED/LCD Size   370 x 470mm / 590 x 670mm
Reflector   Aluminum Mirror